Vakuuma pārklājums attiecas uz iztvaikošanas avota karsēšanu un iztvaicēšanu vakuumā vai izsmidzināšanu ar paātrinātu jonu bombardēšanu, un tā uzklāšanu uz pamatnes virsmas, veidojot viena slāņa vai daudzslāņu plēvi.Kāds ir vakuuma pārklājuma princips?Tālāk ar to mūs iepazīstinās RSM redaktors.
1. Vakuuma iztvaikošanas pārklājums
Iztvaikošanas pārklājumam ir nepieciešams, lai attālumam starp tvaika molekulām vai atomiem no iztvaikošanas avota un pārklājamā substrāta būtu jābūt mazākam par atlikušo gāzes molekulu vidējo brīvo ceļu pārklājuma telpā, lai nodrošinātu, ka tvaika molekulām iztvaikošana var sasniegt pamatnes virsmu bez sadursmes.Pārliecinieties, ka plēve ir tīra un stingra, un iztvaikošana neoksidējas.
2. Vakuuma izsmidzināšanas pārklājums
Vakuumā, kad paātrinātie joni saduras ar cieto vielu, no vienas puses, kristāls tiek bojāts, no otras puses, tie saduras ar atomiem, kas veido kristālu, un visbeidzot ar atomiem vai molekulām uz cietās vielas virsmas. izsmidzināt uz āru.Izsmidzinātais materiāls tiek pārklāts uz pamatnes, lai izveidotu plānu plēvi, ko sauc par vakuuma izsmidzināšanu.Ir daudzas izsmidzināšanas metodes, starp kurām diožu izsmidzināšana ir agrākā.Saskaņā ar dažādiem katoda mērķiem to var iedalīt līdzstrāvā (DC) un augstfrekvencē (RF).To atomu skaitu, kas izputināti, iedarbojoties uz mērķa virsmu ar jonu, sauc par izsmidzināšanas ātrumu.Ar augstu izsmidzināšanas ātrumu plēves veidošanās ātrums ir ātrs.Izsmidzināšanas ātrums ir saistīts ar jonu enerģiju un veidu, kā arī mērķa materiāla veidu.Vispārīgi runājot, izsmidzināšanas ātrums palielinās, palielinoties cilvēka jonu enerģijai, un dārgmetālu izsmidzināšanas ātrums ir lielāks.
Publicēšanas laiks: 14. jūlijs 2022