Vairumtirdzniecība CrAlSi sakausējuma izsmidzināšanas mērķis augstas tīrības pakāpes plānslāņa Pvd pārklājums, pēc pasūtījuma izgatavots ražotājs un piegādātājs |Bagāts

Hroma alumīnija silīcijs

CrAlSi sakausējuma izsmidzināšanas mērķis augstas tīrības pakāpes plānas plēves Pvd pārklājums pēc pasūtījuma izgatavots Piedāvātais attēls

Īss apraksts:

Kategorija	Sakausējuma izsmidzināšanas mērķis
Ķīmiskā formula	CrAlSi
Sastāvs	Hromēta alumīnija silīcijs
Tīrība	99,9%, 99,95%, 99,99%
Forma	Plāksnes, kolonnu mērķi, loka katodi, izgatavoti pēc pasūtījuma
Ražošanas process	Vakuuma kausēšana, PM
Pieejamais izmērs	L≤1000mm, W≤200mm

Nosūtiet mums e-pastu

Produkta informācija

Produktu etiķetes

Hronija alumīnija silīcija izsmidzināšanas mērķa apraksts

Hronija alumīnija silīcija izsmidzināšanas mērķu izgatavošana ietver šādas darbības:
1. Silīcija, alumīnija un hrona kausēšana vakuumā, lai iegūtu pakāpeniskus sakausējumus.
2.Pulvera malšana un sajaukšana.
3. Karstā izostatiskā presēšana, lai iegūtu hroma alumīnija silīcija sakausējuma izsmidzināšanas mērķi.
Hronija alumīnija silīcija izsmidzināšanas mērķi tiek plaši izmantoti griešanas instrumentos un veidnēs, pateicoties to nodilumizturībai un augstas temperatūras oksidācijas izturībai, lai uzlabotu plēves veiktspēju.
CrAlSi mērķu PVD procesā veidojas amorfā Si3N4 fāze.Sakarā ar amorfās Si3N4 fāzes iekļaušanu graudu lieluma augšanu var ierobežot un uzlabot augstas temperatūras oksidācijas izturības īpašību.

Hronija alumīnija silīcija izsmidzināšanas mērķa iepakojums

Mūsu hronija alumīnija silīcija izsmidzināšanas mērķis ir skaidri marķēts un ārēji marķēts, lai nodrošinātu efektīvu identifikāciju un kvalitātes kontroli.Ir ļoti rūpīgi jāizvairās no bojājumiem, kas var rasties uzglabāšanas vai transportēšanas laikā

Saņemiet kontaktu

RSM hronija alumīnija silīcija izsmidzināšanas mērķi ir īpaši augstas tīrības pakāpes un viendabīgi.Tie ir pieejami dažādās formās, tīrībā, izmēros un cenās.Mēs specializējamies augstas tīrības pakāpes plānslāņa pārklājuma materiālu ražošanā ar izcilu veiktspēju, kā arī ar augstāko iespējamo blīvumu un mazāko iespējamo vidējo graudu izmēru izmantošanai veidņu pārklāšanā, dekorācijā, automobiļu daļās, zema E stikla, pusvadītāju integrālās shēmas, plānā plēvē. pretestība, grafiskais displejs, kosmosa, magnētiskā ierakstīšana, skārienekrāns, plānas plēves saules baterija un citas fiziskas tvaiku pārklāšanas (PVD) programmas.Lūdzu, nosūtiet mums pieprasījumu par pašreizējo cenu izsmidzināšanas mērķiem un citiem nogulsnēšanas materiāliem, kas nav norādīti sarakstā.

Iepriekšējais: CrSi sakausējuma izsmidzināšanas mērķis augstas tīrības pakāpes plānslāņa Pvd pārklājums Izgatavots pēc pasūtījuma

Nākamais: AlCr sakausējuma izsmidzināšanas mērķis augstas tīrības pakāpes plānslāņa Pvd pārklājums Izgatavots pēc pasūtījuma