Laipni lūdzam mūsu tīmekļa vietnēs!

AlTa Sputtering Target augstas tīrības pakāpes plānslāņa PVD pārklājums Izgatavots pēc pasūtījuma

Alumīnijs-tantals

Īss apraksts:

Kategorija

Sakausējuma izsmidzināšanas mērķis

Ķīmiskā formula

AlTa

Sastāvs

Alumīnijs-tantals

Tīrība

99,9%, 99,95%, 99,99%

Forma

Plāksnes, kolonnu mērķi, loka katodi, izgatavoti pēc pasūtījuma

Ražošanas process

Vakuuma kausēšana, PM

Pieejamais izmērs

L≤200mm, W≤200mm


Produkta informācija

Produktu etiķetes

Mērķus sagatavo, sajaucot alumīnija un tantala pulverus vai kausējot vakuumā, kam seko blīvēšana līdz pilnam blīvumam.Šādi saspiestie materiāli tiek pēc izvēles saķepināti un pēc tam tiek veidoti vēlamajā mērķa formā.

Alumīnija tantala izsmidzināšanas mērķim ir augsta tīrība, viendabīga mikrostruktūra un lieliska vadītspēja.To plaši izmanto plānu plēvju veidošanā plakano paneļu displeju nozarē.Var pievienot arī alumīnija tantalu, lai iegūtu augstas veiktspējas titāna sakausējumu, lai uzlabotu tā piemērotību augstām temperatūrām.

Al-Ta sakausējuma piemaisījumu saturs

sastāvu

Saturs(%)

Ta

Fe

Si

C

O

AlTa60

55,0–65,0

≤0,05

≤0,02

≤0,01

≤0,05

AlTa70

65,0–75,0

≤0,05

≤0,02

≤0,01

≤0,05

Rich Special Materials specializējas izsmidzināšanas mērķa ražošanā un var ražot alumīnija tantala izsmidzināšanas materiālus atbilstoši klientu specifikācijām.Mūsu produktiem ir izcilas mehāniskās īpašības, viendabīga struktūra, pulēta virsma bez segregācijas, porām vai plaisām.Lai iegūtu vairāk informācijas, lūdzu, sazinieties ar mums.


  • Iepriekšējais:
  • Nākamais: